Eine Reinigungsflüssigkeit zur Entfernung von Submikron-Partikeln
Opteon™ SF05 Spezialflüssigkeit eignet sich zur Entfernung von Submikron-Partikeln von Oberflächen und Festsubstraten. Es wird in einer Reihe von Branchen eingesetzt, darunter Elektronik, Sensor- und Optikreinigung, 3D-Druck und Halbleiterreinigung.
Es kann für eine Reihe von Anwendungen verwendet werden, darunter:
- Absorptionstrocknung
- Entfernung von Partikeln
- Entfernung von Fingerabdrücken
- Entfernung ionischer Verunreinigungen
Die Herausforderung bei diesen Anwendungen besteht darin, die Partikel zu entfernen, ohne die Oberfläche zu beschädigen, auf der sie sitzen. Opteon™ SF05 wird von Entwicklungs- und Qualitätsingenieuren für die Entfernung von Submikron-Partikeln ausgewählt, weil es empfindliche Oberflächen effizient und rückstandsfrei reinigt.
Eigenschaften und Vorteile
Opteon™ SF05 ist eine nachhaltige Spezialflüssigkeit auf Basis der Hydrofluorolefin-Technologie (HFO), die kritische Bauteile schonend reinigt. Sie besitzt ein Ozonabbaupotenzial (ODP) von Null sowie ein geringes Treibhauspotenzial (GWP). Sie kommt häufig zum Reinigen von Präzisionsteilen zum Einsatz, z. B. CMOS-Kameramodule, OIS (optische Bildstabilisierung), VCM (Schwingspulenmotor), optische Sensoren, elektronische Sensoren, sowie zum Entfernen von Fingerabdrücken von kritischen Bauteilen.
